設(shè)備原理:
等離子體對(duì)高分子材料表面發(fā)射反應(yīng)的機(jī)制,可以概括為三步:
第一步:空氣中的少數(shù)自由電子在高壓電場(chǎng)中被加速而獲得較高動(dòng)能,在運(yùn)動(dòng)時(shí)必然會(huì)撞擊到空間中的其他分子,既可以是電場(chǎng)中的氣體分子,又可以是高分子材料表明的大分子鏈。被撞擊的分子同時(shí)接受到部分能量,成為激發(fā)態(tài)分子而具有活性
第二步:激發(fā)態(tài)分子不穩(wěn)定,有分解成自由基消耗吸收的能量,也可能離解成離子或保留其能量而停留于亞穩(wěn)態(tài)。
第三步:自由基或者離子在高分子表面反應(yīng)時(shí),有可能形成以下幾種情況,即形成致密的交聯(lián)層;等離子體與存在的氣體或者單體發(fā)生聚合反應(yīng),沉積在聚合物表面形成具有可設(shè)計(jì)性的涂層;等離子體與表面自由基或者離子反應(yīng)形成改性層
等離子體對(duì)聚合物表面作用有許多理論解釋,如表面分子鏈降解理論、氧化理論、氫鍵理論、交聯(lián)理論、臭氧化理論及表面介電體理論等,究竟哪一種理論更切合實(shí)際,還需進(jìn)一步研究討論。目前,以氧化理論、氫鍵理論和介電體理論更易被人們接受。
PDMS經(jīng)氧等離子體處理后,表面親水性隨放置時(shí)間的延長(zhǎng)而逐漸減弱。已經(jīng)有許多研究者對(duì)此現(xiàn)象提出了很多不同的見(jiàn)解,從原材料的特性、
固化工藝到主要處理參數(shù)的變化等,都作過(guò)各種各樣的討論。
總的來(lái)說(shuō),目前主要有以下幾種解釋:
表面的極性基團(tuán)轉(zhuǎn)移到PDMS本體中:
表面硅烷醇基團(tuán)的縮合反應(yīng);
表面的污染;
表面粗糙度的變化;
表面不穩(wěn)定的富氧區(qū)揮發(fā)至空氣中;
本體中的低分子量有機(jī)體遷移至表面。
一般認(rèn)為,處理后的PDMS樣品露置于空氣中,表面潤(rùn)濕性隨放置時(shí)間的延長(zhǎng)逐漸變差,這種現(xiàn)象是由于擴(kuò)散作用而引起分子鏈的遷移。
PLUTO-T參數(shù):
RF:13.56MHz
容積:4.3L
控制方式:PLC