PLUTO-30(30L)等離子清洗機

專用氣體輸送系統(tǒng)，提供氣體分配均勻性和靈活的氣體分配方法

不同工藝模式（RIE、下游等離子體等）的柔性電極配置

獨特的射頻系統(tǒng)提供卓越的工藝重復性和處理效率

全自動處理能力

圖形用戶界面支持配方編輯器、配方驅(qū)動流程并提供實時流程信息

臺式設計需要較小的占地面積

典型應用

表面活化

提高表面能量以提高材料粘合性：預壓模粘合；預焊線粘合

增強表面膠體流動性：預成型；預倒裝芯片下溢

表面粗糙度和蝕刻

降低表面應力，改善表面粘結性

灰化和表面清潔

Plasma等離子蝕刻（配備RIE配置)

電介質(zhì)/III-IV材料

納米涂層（配備液體前體輸送裝置）

耐水納米涂層：印刷電路板表面處理

防腐納米涂層：醫(yī)療器械，醫(yī)療植入物